8．下列化學(xué)用語或元素性質(zhì)說法正確的是（　�。�
A．原子核外電子排布式為1s2的元素與原子核外電子排布式為1s22s2的元素化學(xué)性質(zhì)相似
B．NaCl的電子式：
C．F+的結(jié)構(gòu)示意圖：
D．Fe3+的最外層電子排布式為3s23p63d5

分析 A．1s2是He元素屬于0族元素，1s22s2是Be元素屬于第IIA族元素；
B．NaCl是離子化合物，由Na+、Cl-組成，電子式中需要標(biāo)出電荷；
C．氟原子的核電荷數(shù)=9；
D．根據(jù)元素符號(hào)，判斷元素原子的核外電子數(shù)，再根據(jù)核外電子排布規(guī)律來寫．

解答 解：A．1s2是He元素屬于0族元素，1s22s2是Be元素屬于第IIA族元素，二者性質(zhì)不同，故A錯(cuò)誤；
B．氯化鈉屬于離子化合物，其電子式中需要標(biāo)出陰陽離子所帶電荷，氯化鈉正確的電子式為：，故B錯(cuò)誤；
C．氟離子核內(nèi)質(zhì)子數(shù)為9，核外電子數(shù)為10，其原子結(jié)構(gòu)示意圖為：，故C錯(cuò)誤；
D．鐵原子失去最外層4s能級(jí)2個(gè)電子，然后失去3d能級(jí)上的1個(gè)電子形成Fe3+，核外電子排布式為：1s22s22p63s23p63d5，故D正確．
故選D．

點(diǎn)評(píng) 本題考查了基態(tài)原子的核外電子排布式、電子式、離子結(jié)構(gòu)示意圖以及最外層的電子排布圖，注意電子處于全滿、半滿、全空時(shí)最穩(wěn)定，題目難度不大．

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

18．下列有關(guān)膠體及其性質(zhì)的敘述正確的是（　�。�
A．Fe（OH）3膠體無色、透明，能發(fā)生丁達(dá)爾現(xiàn)象
B．水泥廠、冶金廠常用高壓電除去煙塵，是因?yàn)闊焿m微粒帶電荷
C．膠體與其它分散系的本質(zhì)區(qū)別是膠體有丁達(dá)爾效應(yīng)，而其它分散系卻沒有
D．納米材料 微粒直徑從幾納米到幾十納米（1nm=10-9m），因此納米材料屬于膠體

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

19．硒（Se）及其化合物在工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)中有許多用途．以銅陽極泥（主要成分為Ag2Se、Cu2Se和銀、金、鉑等）為原料制備純硒的工藝流程如圖1所示：

已知：Ksp（Ag2S04）=1.4×10-5，請(qǐng)回答下列問題：
（1）“加硫酸并焙燒”時(shí)的硫酸濃度最好為a（填字母）．a(chǎn)．濃硫酸    b．10%硫酸
（2）“加硫酸并焙燒”過程中Cu2Se參與反應(yīng)的化學(xué)方程式為Cu2Se+6H2SO4（濃）$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$2CuSO4+SeO2↑+4SO2↑+6H2O，該反應(yīng)的還原劑是Cu2Se．
（3）“爐渣加水浸出”中的爐渣需粉碎，且加入溫水進(jìn)行浸泡，目的是加快浸出速率，“浸渣”中含有的金屬成分是Au、Pt，若“浸出液”中c（Ag+）=3.0×10-2mol/L，則溶液中c（SO42-）最大為1.6×10-2moL/L（計(jì)算結(jié)果保留2位有效數(shù)字）．
（4）操作I的名稱為過濾．
（5）+4價(jià)Se的氧化性強(qiáng)于+4價(jià)S的氧化性，SeO2、SO2混合氣體用水吸收所發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為SeO2+2SO2+2H2O=2H2SO4+Se↓．
（6）操作I所得粗硒中含有Ni、Fe、Cu等雜質(zhì)，可采用真空蒸餾的方法進(jìn)行提純，獲得純硒．真空蒸餾的揮發(fā)物中硒含量與溫度的關(guān)系如圖2所示：蒸餾操作中控制的最佳溫度是c （填字母）．
a．455℃b．462℃c．475℃d．515℃

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

16．現(xiàn)有常溫下pH=2的鹽酸甲和pH=2的醋酸溶液乙，請(qǐng)根據(jù)下列操作回答問題：
（1）常溫下0.1mol/L的CH3COOH溶液加水稀釋過程，下列表達(dá)式的數(shù)據(jù)一定變小的是A．
A．c（H+）                 B．$\frac{c（{H}^{+}）}{c（C{H}_{3}COOH）}$     C．c（H+）•c（OH-）         D．$\frac{c（O{H}^{-}）}{c（{H}^{+}）}$
（2）取10mL的乙溶液，加入等體積的水，醋酸的電離平衡向右（填“向左”、“向右”或“不”）移動(dòng)；另取10mL的乙溶液，加入少量無水醋酸鈉固體（假設(shè)加入固體前后，溶液體積保持不變），待固體溶解后，溶液中c（H+）/c（CH3COOH）的比值將減�。ㄌ睢霸龃蟆�、“減小”或“無法確定”）．
（3）相同條件下，取等體積的甲、乙兩溶液，各稀釋100倍．稀釋后的溶液，其pH大小關(guān)系為：pH（甲）＞pH（乙）（ 填“＞”、“＜”或“=”）．
（4）取等體積的甲、乙兩溶液，分別用等濃度的NaOH稀溶液中和，則消耗的NaOH溶液的體積大小關(guān)系為：V（甲）＜ V（乙）（ 填“＞”、“＜”或“=”）．
（5）已知25℃時(shí)，兩種酸的電離平衡常數(shù)如下：
化學(xué)式CH3COOHH2CO3HClO
電離平衡常數(shù)K11.8×10-54.3×10-73.0×10-8
K2--5.6×10-11--
下列四種離子結(jié)合H+能力最強(qiáng)的是B．
A．HCO3-         B．CO32-          C．ClO-          D．CH3COO-
寫出下列反應(yīng)的離子方程式：CH3COOH+Na2CO3（少量）：2CH3COOH+CO32-=H2O+2CH3COO-+CO2↑；HClO+Na2CO3（少量）：HClO+CO32-=ClO-+HCO3-．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

3．能在水溶液中大量共存的一組離子是（　�。�
A．H+、Fe2+、I-、NO3-B．Al3+、AlO2-、SO42-、Cl-
C．K+、Ag+、Ca2+、NO3-D．NH4+、Na+、OH-、MnO4-

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

13．某溫度時(shí)，在1L密閉容器中，A、B、C三種氣態(tài)物質(zhì)的物質(zhì)的量隨時(shí)間變化的曲線如圖所示．由圖中數(shù)據(jù)分析：
（1）該反應(yīng)的化學(xué)方程式：2A+B?2C．
（2）如果反應(yīng)物所具有的總能量大于生成物所具有的總能量，反應(yīng)物轉(zhuǎn)化為生成物時(shí)△H小于（填大于或小于）0．
（3）反應(yīng)開始至2min末，A的平均反應(yīng)速率為1mol/（L•min）．
（4）A物質(zhì)可能含有碳元素或硫元素，工業(yè)上處理含CO、SO2煙道氣污染的一種方法是將其在催化劑作用下轉(zhuǎn)化為單質(zhì)硫與二氧化碳．
①CO（g）+$\frac{1}{2}$O2（g）═CO2（g）△H=-283.0kJ•mol-1
②S（s）+O2（g）═SO2（g）△H=-296.0kJ•mol-1
此CO與SO2轉(zhuǎn)化為單質(zhì)硫的熱化學(xué)方程式是2CO（g）+SO2（g）=S（s）+2CO2（g）△H=-270KJ•mol-1．
CO與CS2屬于等電子體，則CS2的結(jié)構(gòu)式為S=C=S．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

20．下列有關(guān)有機(jī)物的說法正確的是（　�。�
A．1mol能與4molNaOH充分反應(yīng)
B．系統(tǒng)命名法為3-丁烯
C．的碳原子都在一個(gè)平面內(nèi)，且它的二氯代物為3種
D．1mol可以與4molH2發(fā)生加成

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

17．硅是帶來人類文明的重要元素之一，從傳統(tǒng)材料到信息材料的發(fā)展過程中創(chuàng)造了一個(gè)又一個(gè)奇跡．
（1）新型陶瓷Si3N4的熔點(diǎn)高、硬度大、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定．工業(yè)上可以采用化學(xué)氣相沉積法，在H2的保護(hù)下，使SiCl4與N2反應(yīng)生成Si3N4沉積在石墨表面，寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si3N4+12HCl；
（2）一種用工業(yè)硅（含少量鉀、鈉、鐵、銅的氧化物），已知硅的熔點(diǎn)是1420℃，高溫下氧氣及水蒸氣能明顯腐蝕氮化硅．一種合成氮化硅的工藝主要流程如圖：

①凈化N2和H2時(shí)，銅屑的作用是除去原料氣中的氧氣；硅膠的作用是除去生成的水蒸氣；
②在氮化爐中3SiO2（s）+2N2（g）═Si3N4（s）△H=-727.5kJ/mol，開始時(shí)為什么要嚴(yán)格控制氮?dú)獾牧魉僖钥刂茰囟仍摲磻?yīng)為放熱反應(yīng)，防止局部過熱，導(dǎo)致硅熔化熔合成團(tuán)，阻礙與N2的接觸；體系中要通入適量的氫氣是為了將體系中的氧氣轉(zhuǎn)化為水蒸氣，而易被除去（或?qū)⒄麄�(gè)體系中空氣排盡）；
③X可能是硝酸（選填：“鹽酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氫氟酸”）．
（3）工業(yè)上可以通過如圖2所示的流程制取純硅：
①個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧．SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)，寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl；
②假設(shè)每一輪次制備1mol純硅，且生產(chǎn)過程中硅元素沒有損失，反應(yīng)Ⅰ中HCl的利 用率為90%，反應(yīng)Ⅱ中H2的利用率為93.75%．則在第二輪次的生產(chǎn)中，補(bǔ)充投入HCl和H2的物質(zhì)的量之比是5：1．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

18．X、Y兩元素可形成X2Y3型化合物，則X、Y原子基態(tài)時(shí)最外層的電子排布可能是（　　）
A．X：3s23p1　Y：3s23p5B．X：2s22p2　Y：2s22p4
C．X：3s23p1　Y：3s23p4D．X：3s2　　Y：2s22p3

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