Question

15．下列離子方程式中正確的是（　�。�

• A． 工業(yè)上粗硅的制備：SiO₂+C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+CO₂↑
• B． Cu₂O與稀H₂SO₄反應：Cu₂O+2H⁺═2Cu⁺+H₂O
• C． 用稀硝酸洗滌試管內壁的銀鏡：3Ag+4H⁺+NO₃^-═3Ag⁺+NO↑+2H₂O
• D． 向Mg（HCO₃）₂溶液中加足量燒堿溶液：Mg²⁺+2HCO₃^-+2OH^-═MgCO₃↓+2H₂O+CO₃^2-

Answer 1

分析 A．不符合反應客觀事實；
B．二者反應生成硫酸銅和銅、水；
C．硝酸具有強的氧化性，能夠氧化銀生成可溶性硝酸銀；
D．燒堿足量反應生成氫氧化鎂和碳酸鈉、水．

解答 解：A．工業(yè)上粗硅的制備，離子方程式：SiO₂+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+2CO↑，故A錯誤；
B．Cu₂O與稀H₂SO₄反應，離子方程式：Cu₂O+2H⁺═Cu²⁺+H₂O+Cu，故B錯誤；
C．用稀硝酸洗滌試管內壁的銀鏡，離子方程式：3Ag+4H⁺+NO₃^-═3Ag⁺+NO↑+2H₂O，故C正確；
D．向Mg（HCO₃）₂溶液中加入過量的NaOH溶液，離子方程式：Mg²⁺+2HCO₃^-+4OH^-═Mg（OH）₂↓+2CO₃^2-+2H₂O，故D錯誤；
故選：C．

點評 本題考查了離子方程式的書寫，側重考查氧化還原反應、復分解反應的量子方程式書寫，明確反應實質是解題關鍵，注意氧化還原反應得失電子守恒，注意離子反應遵循客觀事實，題目難度中等．