考點(diǎn):晶胞的計(jì)算
專題:化學(xué)鍵與晶體結(jié)構(gòu)
分析:(1)A.對(duì)比GaAs與NaCl中陰陽離子在晶胞中的分布可判斷晶胞結(jié)構(gòu)是否一樣;
B.同周期元素從左到右第一電離能逐漸增大;
C.同周期元素從左到右電負(fù)性逐漸增大;
D.同周期自左而右原子半徑減;
(2)砷化鎵可由(CH
3)
3Ga和AsH
3在700℃下反應(yīng)制得,根據(jù)原子守恒可知還生成CH
4;
(3)根據(jù)中心原子成鍵與含有孤電子對(duì)數(shù)判斷分子的空間構(gòu)型可雜化方式;
(4)根據(jù)金屬晶體的構(gòu)成微粒分析解答;根據(jù)能量最低原理書寫電子排布式;
(5)[Cu(NH
3)
4]SO
4晶體屬于配合物,配離子與硫酸根之間形成離子鍵、銅離子與氨氣分子之間形成配位鍵,氨氣分子、硫酸根離子中存在普通共價(jià)鍵.
(6)根據(jù)氯化鈉的結(jié)構(gòu)知,氧離子和相鄰的鎳離子之間的距離為
a,距離最近的兩個(gè)陽離子核間的距離是距離最近的氧離子和鎳離子距離的
倍,根據(jù)圖片知,每個(gè)氧化鎳所占的面積=1.40×10
-10m×1.40×10
-10m×sin60°,每個(gè)氧化鎳的質(zhì)量=
g,每個(gè)氧化鎳的質(zhì)量乘以每平方米含有的氧化鎳個(gè)數(shù)就是每平方米含有的氧化鎳質(zhì)量.
解答:
解:(1)A.GaAs晶體中As分布于晶胞體心,Ga分布于頂點(diǎn)和面心,而NaCl中陰陽離子分別位于晶胞的頂點(diǎn)、面心以及棱和體心,二者結(jié)構(gòu)不同,故A錯(cuò)誤;
B.同周期元素從左到右第一電離能逐漸增大,則第一電離能:As>Ga,故B正確;
C.同周期元素從左到右電負(fù)性逐漸增大,則電負(fù)性:As>Ga,故C正確;
D.同周期自左而右原子半徑減小,故原子半徑As<Ga,故D錯(cuò)誤,
故答案為:BC;
(2)反應(yīng)為(CH
3)
3Ga和AsH
3,生成為GaAs,根據(jù)原子守恒可知還應(yīng)有和CH
4,反應(yīng)的化學(xué)方程式為(CH
3)
3Ga+AsH
3 GaAs+3CH
4,
故答案為:(CH
3)
3Ga+AsH
3 GaAs+3CH
4;
(3)AsH
3中含有3個(gè)δ鍵和1個(gè)孤電子對(duì),為三角錐形,(CH
3)
3Ga中Ga形成3個(gè)δ鍵,沒有孤電子對(duì),為sp
2雜化,
故答案為:三角錐型;sp
2;
(4)銅為金屬晶體,由銅離子與自由電子構(gòu)成,自由電子在外加電場的作用下可以發(fā)生定向移動(dòng),故可以導(dǎo)電,Cu
2+的核外電子排布式為:1s
22s
22p
63s
23p
63d
9,
故答案為:銅為金屬晶體,由銅離子與自由電子構(gòu)成,自由電子在外加電場的作用下可以發(fā)生定向移動(dòng);1s
22s
22p
63s
23p
63d
9;
(5)[Cu(NH
3)
4]SO
4晶體屬于配合物,配離子與硫酸根之間形成離子鍵、銅離子與氨氣分子之間形成配位鍵,)[Cu(NH
3)
4]SO
4晶體屬于配合物,氨氣分子、硫酸根離子中存在普通共價(jià)鍵,四氨合銅絡(luò)離子與硫酸根之間形成離子鍵、銅離子與氨氣分子之間形成配位鍵,
故答案為:離子鍵;配位鍵;
(6)根據(jù)氯化鈉的結(jié)構(gòu)知,氧離子和相鄰的鎳離子之間的距離為
a,距離最近的兩個(gè)陽離子核間的距離是距離最近的氧離子和鎳離子距離的
倍,所以其距離是
acm;
根據(jù)圖片知,每個(gè)氧化鎳所占的面積=
4×1.40×10-10m×8×1.40×10-10m×sin60° |
8 |
,則每平方米含有的氧化鎳個(gè)數(shù)=
1 |
4×1.4×10-10×1.4×10-10Sin60° |
,每個(gè)氧化鎳的質(zhì)量=
g,所以每平方米含有的氧化鎳質(zhì)量=
g×
1 |
4×1.4×10-10×1.4×10-10Sin60° |
=
74.7 |
6.02×1023×4×1.4×10-10×1.4×10-10× |
=1.83×10
-3,
故答案為:
a;
74.7 |
6.02×1023×4×1.4×10-10×1.4×10-10× |
=1.83×10
-3.
點(diǎn)評(píng):本題考查學(xué)生對(duì)物質(zhì)結(jié)構(gòu)與性質(zhì)模塊的掌握情況,重點(diǎn)考查結(jié)構(gòu)知識(shí),涉及電離能、電負(fù)性、原子半徑、空間結(jié)構(gòu)、雜化軌道、化學(xué)式、金屬晶體電子氣理論,考查知識(shí)全面、覆蓋廣,難度適中,可以衡量學(xué)生對(duì)該模塊主干知識(shí)的掌握情況.