②SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3.HCl和另一種物質(zhì).寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式3SiHCl3+3H2O===H2SiO3+H2↑+3HCl;H2還原SiHCl3過程中若混入O2.可能引起的后果是:高溫下.H2遇O2發(fā)生爆炸.(2)ABCD解釋:SiC和Si3N4均為原子晶體.熔點高.性質(zhì)穩(wěn)定.AB正確.光導(dǎo)纖維的材料為SiO2.C正確.普通玻璃的主要成分為Na2SiO3和CaSiO3.它是以石英砂和純堿為主要原料反應(yīng)制成的.Na2CO3+SiO2====Na2SiO3+CO2,CaCO3+SiO2====CaSiO3+CO2.D正確.常溫下.Si只能與唯一一種酸HF反應(yīng)不與HCl反應(yīng).E錯.(3)寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋:生成白色絮狀沉淀.又刺激性氣味的氣體生成,SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應(yīng).SiO32- + 2 NH4+ + 2H2O === 2NH3?H2O + H2SiO3↓. 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如圖

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)方程式:__________________
②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平后的化學(xué)方程式________________;H2還原SiHCl3過程中若混有O2,可能引起的后果是_____________。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是___________(填字母)。
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料--光導(dǎo)纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英制成的,其熔點很高
E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

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硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________。
②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水、無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________;H2還原SiHCl3過程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是   (  )。
A.單質(zhì)硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,但可以被強(qiáng)堿溶液腐蝕
B.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高
D.光導(dǎo)纖維的主要成分是SiO2
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入鹽酸,振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋(用化學(xué)方程式說明)_________________________ ____。
(4)在人體器官受到損傷時,需要使用一種新型無機(jī)非金屬材料來植入體內(nèi),這種材料是________(填字母)。
A.高溫結(jié)構(gòu)陶瓷     B.生物陶瓷      C.導(dǎo)電陶瓷

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硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用很廣。請回答下列問題:

(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下 :

 

寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________

整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水、無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________;H2還原SiHCl3過程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。

(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是 (  )。

A單質(zhì)硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,但可以被強(qiáng)堿溶液腐蝕

B鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

C普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高

D光導(dǎo)纖維的主要成分是SiO2

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入鹽酸,振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋(用化學(xué)方程式說明)_________________________ ____。

(4)在人體器官受到損傷時,需要使用一種新型無機(jī)非金屬材料來植入體內(nèi),這種材料是________(填字母)。

A高溫結(jié)構(gòu)陶瓷  B.生物陶瓷  C導(dǎo)電陶瓷

 

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硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________。
②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水、無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________;H2還原SiHCl3過程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是   (  )。
A.單質(zhì)硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,但可以被強(qiáng)堿溶液腐蝕
B.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高
D.光導(dǎo)纖維的主要成分是SiO2
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入鹽酸,振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋(用化學(xué)方程式說明)_________________________ ____。
(4)在人體器官受到損傷時,需要使用一種新型無機(jī)非金屬材料來植入體內(nèi),這種材料是________(填字母)。
A.高溫結(jié)構(gòu)陶瓷     B.生物陶瓷      C.導(dǎo)電陶瓷

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硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:

(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅  的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:

      

①     寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

②     整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式

________________________________________________________________________;

H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是

________________________________________________________________________。

(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是________(填字母)。

A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高

E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,      振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋:

________________________________________________________________________

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