已知：CuCl是一種白色粉末，微溶于水，難溶于乙醇，在空氣中易被氧化，在水溶液中存在平衡：CuCl(s)+2Cl-(aq)[CuCl3]2-(aq)(無色溶液)

下列敘述錯誤的是（ ）

A.浸取中的主要反應為CuFeS2+3CuCl2=4CuCl+FeCl2+2S

B.浸取所得到的FeCl2溶液，可用來腐蝕覆在絕緣板上的銅箔制造印刷電路板

C.加水有利于CuCl(s)+2Cl(aq)-[CuCl3]2-(aq)平衡逆向移動，析出CuCl

D.為提高產率和純度，可采用乙醇洗滌、真空干燥

請回答下列問題：

(1)實驗室制取氨氣的化學方程式為_________；

(2)裝置A中的燒瓶內固體不可以選用________(選填序)

A.生石灰 B.堿石灰 C.五氧化二磷 D.燒堿

(3)裝置F中發(fā)生反應的離子方程式是_________；

(4)B裝置的作用_________；E裝置的作用_________；

(5)若裝置C內出現(xiàn)濃厚的白煙并在容器內壁凝結，且另一生成物是空氣的主要成分之一。請寫出反應的化學方程式：_________；

(6)從裝置C的G處逸出的尾氣中可能含有黃綠色的有毒氣體，可以將尾氣通入盛有_________溶液的燒杯來處理。

A.AB.BC.CD.D

（1）工業(yè)上制取粗硅的化學反應方程式_________________

（2）實驗室用氯氣制取少量“84”消毒液方程式________________

（3）銅和濃硫酸化學反應方程式_________________

（4）二氧化硅與氫氧化鈉溶液反應的離子方程式_________________

（5）用電子式表示氯化鎂的形成過程__________________

回答下列問題：

（1）寫出元素f的基態(tài)原子核外電子排布式：____。

（2）寫出元素h的基態(tài)原子核外電子軌道表示式：________。

（3）基態(tài)b原子電子占據最高能級的電子云輪廓圖為_________

（4）ce2分子的電子式為____。

（5）d、g、h的原子半徑由小到大的順序是_______（用元素符號表示）

（6）用一個化學方程式證明e、i的非金屬性的強弱_________。

（7）d的簡單氫化物比h的簡單氫化物沸點____（填“高”或“低”），請分析其原因____，寫出j的原子結構示意圖_____________

（1）在鼓泡反應器中通入含有SO2和NOx的煙氣，反應溫度為323K，NaClO2堿性溶液濃度為5×103mol·L1。反應一段時間后溶液中離子濃度的分析結果如表。

①寫出NaClO2堿性溶液脫硝（NO）過程中主要反應的離子方程式：____。增加壓強，NO的轉化率___（填“提高”“不變”或“降低”）

②由實驗結果可知，脫硫反應速率大于脫硝反應速率，原因是除了SO2和NO在煙氣中的初始濃度不同，還可能是___。

（2）在不同溫度下，NaClO2溶液脫硫、脫硝的反應中，SO2和NO的平衡分壓px如圖所示。

由圖分析可知，反應溫度升高，脫硫、脫硝反應的平衡常數(shù)均___（填“增大”“不變”或“減小”）。

（3）如果采用NaClO、Ca(ClO)2替代NaClO2，也能得到較好的煙氣脫硫效果。從化學平衡原理分析，Ca(ClO)2相比NaClO具有的優(yōu)點是___。

A.0.15 mol/LB.0.3 mol/LC.0.1 mol/LD.0.225 mol/L

A.發(fā)生裝置與用 KClO3 制取O2 的裝置相同

B.可以用堿石灰或無水氯化鈣干燥制得的氨氣

C.可用單孔橡皮塞代替棉花

D.所用的銨鹽可以是 NH4NO3，所用的堿也可以是 NaOH

A. XeF2分子中各原子均達到8電子穩(wěn)定結構

B. 某種氟化氙的晶體結構單元如右圖，可推知其化學式為XeF2

C. XeF4按已知方式水解，每生成3molO2，共轉移12mol電子

D. XeF2加入水中，在水分子作用下將重新生成Xe和F2

A. 二茂鐵中Fe2+與環(huán)戊二烯離子(C5H5-)之間為配位鍵

B. lmol環(huán)戊二烯()中含有鍵的數(shù)目為11NA

C. 二茂鐵分子中存在π鍵

D. Fe2+的電子排布式為ls 22s 22p63s23p63d44s2