【題目】下列反應(yīng)中,硫酸既表現(xiàn)出強(qiáng)氧化性,又表現(xiàn)出酸性的是( )
A.稀硫酸與鋅粒反應(yīng)生成氣體
B.濃硫酸使鐵、鋁鈍化
C.濃硫酸與銅反應(yīng)加熱反應(yīng)產(chǎn)生SO2
D.濃硫酸和木炭在加熱條件下反應(yīng)
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】常溫下,一定濃度的某溶液,由水電離的出的c(OH-)=1×10-4 mol/L,則該溶液中的溶質(zhì)可能是
A.H2SO4 B.NaOH C.KHSO4 D.CH3COONa
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】【化學(xué)—物質(zhì)結(jié)構(gòu)與性質(zhì)】如右圖是元素周期表的一部分。已知R的核電荷數(shù)小于36,氣態(tài)氫化物沸點(diǎn):MHn>YHn。
(1)表中五種元素第一電離能最大的是 (填元素符號(hào)),Y的最簡(jiǎn)單氫化物分子的空間構(gòu)型為 ,基態(tài)R原子中有 個(gè)未成對(duì)電子。
(2)Y的最高價(jià)氧化物熔點(diǎn)比M的最高價(jià)氧化物熔點(diǎn)低,原因是 ,YZ-中σ鍵與π鍵的個(gè)數(shù)比為 。
(3)YO32-中Y原子的雜化方式是 ,寫(xiě)出一種與YO32-互為等電子體的粒子 (用化學(xué)符號(hào)表示)。
(4)Z的一種常見(jiàn)氫化物能與硫酸銅反應(yīng)生成配合物。請(qǐng)用結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式表示該配合物中的陽(yáng)離子: 。
(5)如圖為某金屬單質(zhì)的面心立方晶胞結(jié)構(gòu)示意圖,該晶體中配位數(shù)是 ;測(cè)得此晶體的密度為2.7g.cm-3,晶胞的邊長(zhǎng)為0.405nm,則此金屬原子的相對(duì)原子質(zhì)量為 (結(jié)果保留整數(shù))。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】決定化學(xué)反應(yīng)速率的主要因素是( )
A.反應(yīng)物本身的性質(zhì)
B.催化劑
C.溫度
D.壓強(qiáng)
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】用pH試紙測(cè)定某無(wú)色溶液的pH時(shí),規(guī)范的操作是( )
A.將pH試紙放入溶液中觀察其顏色變化,跟標(biāo)準(zhǔn)比色卡比較
B.將溶液倒在pH試紙上,跟標(biāo)準(zhǔn)比色卡比較
C.用干燥的潔凈玻璃棒蘸取溶液,滴在pH試紙上,跟標(biāo)準(zhǔn)比色卡比較
D.在試管內(nèi)放入少量溶液,煮沸,把pH試紙放在管口,觀察顏色,跟標(biāo)準(zhǔn)比色卡比較
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】W、X、Y、Z是短周期元素,其部分性質(zhì)如下表:
W | 單質(zhì)是淡黃色固體 |
X | 在地殼中的含量居第二位 |
Y | 原子最外層電子數(shù)是電子總數(shù)的2/3 |
Z | 第3周期原子半徑最小的金屬 |
下列說(shuō)法正確的是
A. 氣態(tài)氫化物的熱穩(wěn)定性:X>W
B. 非金屬性:Y < W;離子半徑:Z > W
C. W在空氣中充分燃燒所得產(chǎn)物,可用于殺菌消毒
D. 金屬Z與少量NaOH溶液反應(yīng),生成兩性氫氧化物
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】(12分)圖表法是常用的科學(xué)研究方法,下表列出了同周期的四種短周期元素的部分性質(zhì)(“電負(fù)性”即元素對(duì)應(yīng)原子吸引電子能力的標(biāo)度):
元素編號(hào) | A | B | C | D | E |
電負(fù)性 | 3.0 | 2.5 | X[ | 1.5 | 0.9 |
原子半徑(單位nm) | 0.099 | 0.102 | 0.110 | 0.143 | 0.186 |
主要化合價(jià) | -1,+7 | -2,+6 | -3,+5 | +3 | +1 |
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)寫(xiě)出E元素的離子結(jié)構(gòu)示意圖 ;
(2)X的值應(yīng)為 (填字母);
A.3.6 B.3.1 C.2.1 D.1.4
(3)分析表中數(shù)據(jù),簡(jiǎn)述同周期元素(除惰性氣體)電負(fù)性大小與原子半徑的關(guān)系 ;
(4)A、B、C三種元素形成的氫化物中,其穩(wěn)定性由強(qiáng)到弱的順序是: (用化學(xué)式表示)
(5)A、D最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物相互反應(yīng)的化學(xué)方程式:
(6)D、E最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物相互反應(yīng)的離子方程式:
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】已知可逆反應(yīng)aA+bBcC中,物質(zhì)的含量A%和C%隨溫度的變化曲線如圖所示,下列說(shuō)法正確的是
A.該反應(yīng)在T1、T3溫度時(shí)達(dá)到過(guò)化學(xué)平衡
B.該反應(yīng)在T2溫度時(shí)達(dá)到過(guò)化學(xué)平衡
C.該反應(yīng)的逆反應(yīng)是放熱反應(yīng)
D.升高溫度,平衡會(huì)向正反應(yīng)方向移動(dòng)
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用炭還原二氧化硅制得粗硅;
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2;
③SiHCl3與過(guò)量H2在1000~1100 ℃反應(yīng)制得純硅。
已知:SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)第①步制備粗硅的化學(xué)方程式為_(kāi)____________________。
(2)用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):
①裝置B中的試劑是________。裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是_________________。
②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是________________,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)_________________________。
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及__________________________。
④SiHCl3的電子式為_(kāi)_______,SiHCl3與H2O反應(yīng)的化學(xué)方程式為:_________________。
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