Question

下列反應(yīng)的離子方程式正確的是（　　）

• A、石英與燒堿溶液共熱：SiO₂+2OH^-

  △   .

  SiO₃^2-+H₂O
• B、在氯化鋁溶液中滴加過量的氨水：Al³⁺+4 OH^-?[Al （OH）₄]^-
• C、在氫氧化鈉溶液中通入過量的CO₂：2OH^-+CO₂?CO₃^2-+H₂O
• D、在氫氟酸中加入石英：SiO₂+4H⁺+4F^-?SiF₄↑+2 H₂O

Answer 1

分析：A．二氧化硅為酸性氧化物能和堿反應(yīng)生成硅酸鈉和水；
B．氫氧化鋁不能溶于弱堿氨水中；
C．過量的CO₂通入NaOH溶液中發(fā)生2NaOH+CO₂═Na₂CO₃+H₂O，Na₂CO₃+CO₂+H₂O═2NaHCO₃，據(jù)此分析解答；
D．氫氟酸為弱酸，應(yīng)該寫化學(xué)式．

解答：解：A．石英與燒堿溶液共熱SiO₂+2NaOH

△   .

Na₂SiO₃+H₂O，硅酸鈉為易溶于水易電離的鹽拆成離子，離子反應(yīng)為SiO₂+2OH^-

△   .

SiO₃^2-+H₂O，故A正確；
B．氯化鋁溶液通入過量氨水的離子反應(yīng)為Al³⁺+3NH₃．H₂O=Al（OH）₃↓+3NH₄⁺，故B錯誤；
C．向NaOH溶液中通入過量的CO₂氣體，反應(yīng)生成了碳酸氫離子，反應(yīng)的離子方程式為CO₂+OH^-=HCO₃^-，故C錯誤；
D．在氫氟酸中加入石英，二氧化硅、水為氧化物寫化學(xué)式，氫氟酸為弱酸，應(yīng)該寫化學(xué)式，四氟化硅為氣體寫化學(xué)式，所以該反應(yīng)離子反應(yīng)為：SiO₂+4HF═SiF₄↑+2H₂O，故D錯誤；
故選A．

點(diǎn)評：本題考查離子方程式書寫的正誤判斷，明確發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)是解答本題的關(guān)鍵，注意離子反應(yīng)中應(yīng)保留化學(xué)式的物質(zhì)，C中氫氧化鈉與過量的CO₂產(chǎn)物的判斷為該題的難點(diǎn)，題目難度不大．