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5.原子序數(shù)依次增大的X、Y、Z、G、Q、R、T七種元素,核電荷數(shù)均小于36.已知X的一種1:2 型氫化物,分子中既有σ鍵又有π鍵,且所有原子共平面;Z的L層上有2個未成對電子;Q 原子s能級與p能級電子數(shù)相等;G為金屬元素;R單質是制造各種計算機、微電子產品的核心材料;T處于周期表的ds區(qū),原子中只有一個未成對電子.
(1)Y原子核外共有7種不同運動狀態(tài)的電子,T原子有7種不同能級的電子.
(2)X、Y、Z的第一電離能由小到大的順序為C<O<N(用元素符號表示).由X、Y、Z形成的離子ZXY?與XZ2互為等電子體,則ZXY?中X原子的雜化軌道類型為sp雜化
(3)Z與R能形成化合物甲,1mol甲中含4mol化學鍵,甲與氫氟酸反應,生成物的分子空間構型分別為正四面體形
(4)G、Q、R氟化物的熔點如下表,造成熔點差異的原因為NaF與MgF2為離子晶體,SiF4為分子晶體,故SiF4的熔點低,Mg2+的半徑比Na+的半徑小,且Mg2+電荷數(shù)高,晶格能MgF2>NaF,故MgF2的熔點比NaF高
 氟化物 G的氟化物 Q的氟化物 R的氟化物
 熔點/K 993 1539 183
(5)向T的硫酸鹽溶液中逐滴加入Y的氫化物的水溶液至過量,反應的離子方程式為Cu2++4NH3.H2O=[Cu(NH34]2++4H2O
(6)X單質的晶胞如右圖所示,一個X晶胞中有8個X原子;若X晶體的密度為p g/cm3,阿伏加德羅常數(shù)的值為NA,則晶體中最近的兩個X原子之間的距離為$\frac{3}{4}\root{3}{\frac{12}{P{N}_{A}}}$cm(用代數(shù)式表示)

分析 X的一種氫化物分子中既有σ鍵又有π鍵,說明分子里有雙鍵或參鍵,X的一種氫化物為1:2型且所有原子共平面,所以X應為C元素,它的1:2型氫化物為乙烯;Z的L層上有2個未成對電子,即核外電子排布為1s22s22p2或1s22s22p4,X、Y、Z原子序數(shù)依次增大,所以Z為O元素,且Y為N元素;Q原子s能級與p能級電子數(shù)相等,則Q的核外電子排布為1s22s22p4或1s22s22p63s2,由于Q的原子序數(shù)比氧大,所以Q的電子排布為1s22s22p63s2,即Q為Mg;而G為金屬元素,且原子序數(shù)介于氧和鎂元素之間,所以G為Na;R單質是制造各種計算機、微電子產品的核心材料,則R為Si;T處于周期表的ds區(qū),原子中只有一個未成對電子,價電子排布為3d104s1,故T為Cu.

解答 解:X的一種氫化物分子中既有σ鍵又有π鍵,說明分子里有雙鍵或參鍵,X的一種氫化物為1:2型且所有原子共平面,所以X應為C元素,它的1:2型氫化物為乙烯;Z的L層上有2個未成對電子,即核外電子排布為1s22s22p2或1s22s22p4,X、Y、Z原子序數(shù)依次增大,所以Z為O元素,且Y為N元素;Q原子s能級與p能級電子數(shù)相等,則Q的核外電子排布為1s22s22p4或1s22s22p63s2,由于Q的原子序數(shù)比氧大,所以Q的電子排布為1s22s22p63s2,即Q為Mg;而G為金屬元素,且原子序數(shù)介于氧和鎂元素之間,所以G為Na;R單質是制造各種計算機、微電子產品的核心材料,則R為Si;T處于周期表的ds區(qū),原子中只有一個未成對電子,價電子排布為3d104s1,故T為Cu.
(1)Y為N元素,核外電子排布式為1s22s22p3,所以7種不同運動狀態(tài)的電子;T為Cu元素,它的核外電子排布式為:1s22s22p63s23p63d104s1,所以它有7個能級,
故答案為:7;7;
(2)C、N、O位于元素周期表同一周期,同周期隨原子序數(shù)增大,第一電離能呈增大趨勢,但N元素原子2p能級容納3個電子,為半滿穩(wěn)定狀態(tài),能量較低,第一電離能高于同周期相鄰元素,故第一電離能:C<O<N;
OCN-與CO2互為等電子體,所以它們結構相似,OCN-中C原子與O、N原子之比分別形成2對共用電子對,沒有孤電子對,所以碳的雜化方式為sp雜化,
故答案為:C<O<N;sp雜化;
(3)Z與R能形成化合物甲為二氧化硅,在二氧化硅晶體中,每個硅原子周圍有四個Si-O鍵,所以1mol二氧化硅中含有4molSi-O鍵;
SiO2與HF反應的方程式為:SiO2+4HF=SiF4+2H2O,其中SiF4中硅原子的價層電子對數(shù)為:4+$\frac{4-1×4}{2}$=4,沒有孤對電子,所以SiF4的空間構型為正四面體,
故答案為:4;正四面體形;
(4)在NaF、MgF2、SiF4中,NaF與MgF2為離子晶體,SiF4為分子晶體,故SiF4的熔點最低,Mg2+的半徑比Na+的半徑小,且Mg2+電荷數(shù)高,晶格能MgF2>NaF,故MgF2的熔點比NaF高,
故答案為:NaF與MgF2為離子晶體,SiF4為分子晶體,故SiF4的熔點低,Mg2+的半徑比Na+的半徑小,且Mg2+電荷數(shù)高,晶格能MgF2>NaF,故MgF2的熔點比NaF高;
(5)向硫酸銅溶液中逐滴加入氨水溶液至過量,反應生成四氨合銅絡離子,反應的離子方程式為:Cu2++4NH3.H2O=[Cu(NH34]2++4H2O,
故答案為:Cu2++4NH3.H2O=[Cu(NH34]2++4H2O;
(6)碳單質的晶胞為,晶胞中含有C原子數(shù)目為4+8×$\frac{1}{8}$+6×$\frac{1}{2}$=8,C原子與周圍4個原子形成正四面體,正四面體中心C原子與頂點碳原子相鄰,距離最近,晶胞質量為8×$\frac{12}{{N}_{A}}$g,晶體的密度為p g/cm3,則晶胞棱長為$\root{3}{\frac{8×\frac{12}{{N}_{A}}}{P}}$cm,則正四面體的棱長為$\root{3}{\frac{8×\frac{12}{{N}_{A}}}{P}}$cm×$\frac{\sqrt{2}}{2}$,則正四面體的斜高為$\root{3}{\frac{8×\frac{12}{{N}_{A}}}{P}}$cm×$\frac{\sqrt{2}}{2}$×$\frac{\sqrt{3}}{2}$,令斜高為$\root{3}{\frac{8×\frac{12}{{N}_{A}}}{P}}$cm×$\frac{\sqrt{2}}{2}$×$\frac{\sqrt{3}}{2}$=b cm,底面中心到邊的距離為$\frac{1}{3}$b,設正四面體的高為a cm,則a2+($\frac{1}{3}$b)2=b2,解得a=$\frac{\sqrt{6}}{3}$b,故正四面體中心原子到頂點距離為$\frac{3}{4}$a=$\frac{3}{4}$×$\frac{\sqrt{6}}{3}$b=$\frac{\sqrt{6}}{4}$×$\root{3}{\frac{8×\frac{12}{{N}_{A}}}{P}}$cm×$\frac{\sqrt{2}}{2}$×$\frac{\sqrt{3}}{2}$=$\frac{3}{4}\root{3}{\frac{12}{P{N}_{A}}}$cm,
故答案為:8;$\frac{3}{4}\root{3}{\frac{12}{P{N}_{A}}}$.

點評 本題是對物質結構的考查,涉及電離能、雜化軌道、分子結構、晶體類型與性質、配合物、晶胞計算等,(6)中晶胞計算為易錯點、難點,需要學生具備一定的空間想象與數(shù)學計算能力,關鍵理解距離最近碳原子位置.

練習冊系列答案
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d.C分子中苯環(huán)上取代基有2個π鍵.

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(3)在HCNO的三種可能結構中,碳原子的雜化類型相同(填“相同”或“不同”).

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14.下列各項中表達正確的是( 。
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15.硅及其化合物的用途非常廣泛.回答下列問題:
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