如圖甲、乙分別是“探究平面鏡成像特點(diǎn)”和“探究凸透鏡成像規(guī)律”的實(shí)驗(yàn)裝置.

(1)在“探究平面鏡成像特點(diǎn)”的實(shí)驗(yàn)中,拿一只沒有點(diǎn)燃的與A完全相同的蠟燭B豎立在玻璃板后面移動(dòng),直到看上去它跟前面那根蠟燭A的像    ,這樣就確定了像的位置,同時(shí)也證明了像與物體的大小   
(2)“探究凸透鏡成像規(guī)律”的實(shí)驗(yàn)中,保持凸透鏡位置不動(dòng),將蠟燭從遠(yuǎn)處逐漸向凸透鏡的焦點(diǎn)靠近時(shí),要想在光屏上得到清晰燭焰的像,光屏應(yīng)向    (選填“靠近”或“遠(yuǎn)離”)凸透鏡的方向移動(dòng),所成像的大小將    (填“變大”、“變小”或“不變”).
(3)當(dāng)蠟燭移動(dòng)到圖乙所示的位置時(shí),移動(dòng)光屏,光屏上    (選填“能”或“不能”)出現(xiàn)清晰的燭焰的像.甲、乙兩圖中平面鏡與凸透鏡所成的像的相同點(diǎn)是   
【答案】分析:(1)實(shí)驗(yàn)時(shí)采用兩個(gè)完全相同的蠟燭,一支蠟燭放在玻璃板的前面并點(diǎn)燃,另一支放在玻璃板的后面,當(dāng)玻璃板后面的蠟燭和玻璃板前面的蠟燭的像完全重合時(shí),可以確定像的位置,同時(shí)也可以比較物像大小關(guān)系.
(2)凸透鏡成實(shí)像時(shí),物距減小,像距變大,像變大.
(3)實(shí)像和虛像的區(qū)別:實(shí)像能用光屏承接,虛像不能用光屏承接.
平面鏡成正立、等大的虛像;凸透鏡成像時(shí),物距小于焦距成正立、放大的虛像;找出共同點(diǎn)即可.
解答:解:(1)實(shí)驗(yàn)時(shí)采用兩個(gè)完全相同的蠟燭,當(dāng)玻璃板后面的蠟燭和玻璃板前面的蠟燭的像完全重合時(shí),可以確定像的位置,同時(shí)也可以比較物像大小關(guān)系.
(2)凸透鏡成像時(shí),物距大于焦距成實(shí)像,凸透鏡成實(shí)像時(shí),物距減小,像距變大,像變大,所以將蠟燭從遠(yuǎn)處逐漸向凸透鏡的焦點(diǎn)靠近時(shí),要想在光屏上得到清晰燭焰的像,光屏應(yīng)向遠(yuǎn)離凸透鏡,像也變大.
(3)凸透鏡成像時(shí),物距小于焦距成虛像,虛像不能用光屏承接,所以光屏上不能出現(xiàn)清晰的像.
甲圖是平面鏡成像,平面鏡成正立、等大的虛像;乙圖是凸透鏡成像,物距小于焦距成正立、放大的虛像;所以甲乙兩圖成像相同點(diǎn)是正立的虛像.
故答案為:(1)完全重合;相等;(2)遠(yuǎn)離;變大;(3)不能;正立的虛像.
點(diǎn)評(píng):掌握平面鏡成像特點(diǎn)和凸透鏡成像是三種情況,這些是成像的重要依據(jù),一定要熟練掌握.
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(2013?撫順一模)如圖甲、乙分別是“探究平面鏡成像特點(diǎn)”和“探究凸透鏡成像規(guī)律”的實(shí)驗(yàn)裝置.

(1)在“探究平面鏡成像特點(diǎn)”的實(shí)驗(yàn)中,拿一只沒有點(diǎn)燃的與A完全相同的蠟燭B豎立在玻璃板后面移動(dòng),直到看上去它跟前面那根蠟燭A的像
完全重合
完全重合
,這樣就確定了像的位置,同時(shí)也證明了像與物體的大小
相等
相等

(2)“探究凸透鏡成像規(guī)律”的實(shí)驗(yàn)中,保持凸透鏡位置不動(dòng),將蠟燭從遠(yuǎn)處逐漸向凸透鏡的焦點(diǎn)靠近時(shí),要想在光屏上得到清晰燭焰的像,光屏應(yīng)向
遠(yuǎn)離
遠(yuǎn)離
(選填“靠近”或“遠(yuǎn)離”)凸透鏡的方向移動(dòng),所成像的大小將
變大
變大
(填“變大”、“變小”或“不變”).
(3)當(dāng)蠟燭移動(dòng)到圖乙所示的位置時(shí),移動(dòng)光屏,光屏上
不能
不能
(選填“能”或“不能”)出現(xiàn)清晰的燭焰的像.甲、乙兩圖中平面鏡與凸透鏡所成的像的相同點(diǎn)是
正立的虛像
正立的虛像

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如圖甲、乙分別是“探究冰、蠟燭熔化特點(diǎn)”的實(shí)驗(yàn)裝置。甲裝置缺少酒精燈加熱是  __________(正確/錯(cuò)誤)的;采用乙裝置加熱方式的優(yōu)點(diǎn)是________ ,根據(jù)探究過程可知,冰熔化時(shí)溫度 ____________ (升高/不變/降低)。

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如圖甲、乙分別是“探究冰、蠟燭熔化特點(diǎn)”的實(shí)驗(yàn)裝置。甲裝置缺少酒精燈加熱是  __________(正確/錯(cuò)誤)的;采用乙裝置加熱方式的優(yōu)點(diǎn)是________  ,根據(jù)探究過程可知,冰熔化時(shí)溫度 ____________  (升高/不變/降低)。

 

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